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公司新聞
光刻機驅(qū)動芯片產(chǎn)業(yè)迭代升級
2026
1-25在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生態(tài)中，光刻機是芯片制造光刻工藝的核心裝備，其技術(shù)水平直接決定芯片的制程精度與性能上限，在整個芯片制造過程中占據(jù)約35%的制造成本。隨著5G通信、人工智能、新能源汽車等新興產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，市場對高性能芯片的需求持續(xù)爆發(fā)，對光刻機的分辨率、對準(zhǔn)精度與生產(chǎn)效率提出了更高要求。傳統(tǒng)芯片制造依賴光刻技術(shù)將設(shè)計好的集成電路模板精準(zhǔn)復(fù)刻到硅晶圓上，從而實現(xiàn)納米級別的電路圖案制作，光刻機廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片制造、微機電系統(tǒng)（MEMS）、印刷電路板（PCB）及顯示屏制造等關(guān)鍵領(lǐng)域...+ -
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光刻工藝設(shè)備：芯片制造的“微觀雕刻大師”
2025
12-24在半導(dǎo)體芯片制造流程中，光刻工藝是決定芯片集成度與性能的核心環(huán)節(jié)，而光刻工藝設(shè)備則憑借“超精密成像+微米級加工”能力，將電路圖案精準(zhǔn)轉(zhuǎn)移至晶圓表面，其技術(shù)水平直接關(guān)乎芯片制程的突破，被譽為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的明珠。從28nm成熟制程到3nm先進制程，每一次芯片性能的躍升，都離不開光刻工藝設(shè)備的技術(shù)革新。傳統(tǒng)光刻設(shè)備受限于光源波長與光學(xué)系統(tǒng)，難以滿足先進制程對精度的需求。現(xiàn)代光刻工藝設(shè)備通過“深紫外（DUV）+多重曝光”或“極紫外（EUV）”核心技術(shù)，實現(xiàn)精度突破：DUV光刻設(shè)備采用1...+ -
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高效清潔，無損基底：全自動去膠機的應(yīng)用價值
2025
11-23在半導(dǎo)體制造、微電子封裝、光電材料制備等領(lǐng)域，光刻膠作為圖形轉(zhuǎn)移的臨時載體，其使命完成后必須被無損地去除。殘留的微量膠體可能導(dǎo)致電路短路、器件性能惡化乃至整個批次的報廢。全自動去膠機正是為此關(guān)鍵工序而設(shè)計的工藝裝備，它通過精準(zhǔn)、自動化的濕法或干法工藝，實現(xiàn)了光刻膠的高效、無損剝離，是保障產(chǎn)品良率與可靠性的“清潔衛(wèi)士”。一、核心技術(shù)：濕法、干法與復(fù)合工藝的精準(zhǔn)選擇全自動去膠機的技術(shù)路徑主要分為濕法和干法，以適應(yīng)不同的工藝需求。1、濕法去膠：主要利用化學(xué)藥液的溶解或剝離作用。設(shè)備...+ -
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全自動去膠機：高效清潔，開啟精密制造新境界
2025
10-26在現(xiàn)代電子、半導(dǎo)體等精密制造領(lǐng)域，每一個細(xì)微環(huán)節(jié)都關(guān)乎著最終產(chǎn)品的品質(zhì)與性能。而全自動去膠機的出現(xiàn)為這些行業(yè)的生產(chǎn)流程帶來了革命性的變革。我們的去膠機融合了先進的機械設(shè)計與智能控制系統(tǒng)。它采用精準(zhǔn)的定位裝置，能夠準(zhǔn)確地對準(zhǔn)需要去除膠層的工件部位，無論是復(fù)雜的電路板還是微小的芯片載體，都能實現(xiàn)毫厘不差的精準(zhǔn)操作。通過優(yōu)化的噴淋系統(tǒng)和強力物理作用相結(jié)合的方式，快速剝離各種類型的膠水殘留，包括頑固的光刻膠、導(dǎo)熱膠等，且不會對基材造成任何損傷。其高度自動化的特點大大節(jié)省了人力成本和時...+ -
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針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機實現(xiàn)納米級至微米級薄膜的精準(zhǔn)涂布
2025
9-21針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機是專為微量、高精度涂布需求設(shè)計的專用設(shè)備，憑借樣品用量少、涂布均勻性高、可控性強等核心特點，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、柔性電子、生物傳感器、光學(xué)薄膜等精密制造領(lǐng)域，實現(xiàn)納米級至微米級薄膜的精準(zhǔn)涂布，是微納制造的關(guān)鍵工藝裝備。?微量精準(zhǔn)涂布是其核心競爭力。設(shè)備采用“針筒供料-高速旋轉(zhuǎn)”一體化設(shè)計，通過高精度注射泵控制針筒內(nèi)的微量樣品，以滴加或微量擠出方式將樣品輸送至基片中心，再通過基片的高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力，使樣品均勻鋪展形成薄膜。涂布厚度可通過轉(zhuǎn)速、樣品粘度、供料...+ -
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勻膠機滿足多樣化的應(yīng)用需求
2025
8-24在半導(dǎo)體制造、光學(xué)薄膜涂覆等高精度工藝中，材料的均勻分布是決定產(chǎn)品性能的關(guān)鍵因素之一。勻膠機作為實現(xiàn)這一目標(biāo)的核心設(shè)備，用旋轉(zhuǎn)的韻律演繹著材料均勻化的神奇魔法。勻膠機的工作原理基于離心力與液體表面張力的平衡。當(dāng)載有光刻膠或其他功能性漿料的基片被放置在高速旋轉(zhuǎn)的平臺上時，多余的液體會在離心作用下向邊緣甩出，同時形成一層厚度均勻的薄膜覆蓋在基片表面。這種動態(tài)平衡的過程確保了每一寸面積上的涂層厚度都保持一致，誤差控制在納米級別以內(nèi)。對于集成電路的生產(chǎn)而言，這意味著更精確的圖案轉(zhuǎn)移和...+ -
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桌上型成像儀使用方法及注意事項詳解
2025
7-24桌上型成像儀作為一種緊湊便捷的光學(xué)成像設(shè)備，在生物醫(yī)學(xué)研究、材料科學(xué)、電子制造等眾多領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。它能夠?qū)⑽⑿〉臉悠非逦爻上癫⒄宫F(xiàn)在屏幕上，方便用戶進行觀察和分析。掌握其正確的使用方法對于獲得準(zhǔn)確可靠的結(jié)果至關(guān)重要。一、使用方法1、開機準(zhǔn)備：將成像儀放置在平穩(wěn)的工作臺上，連接好電源線并確保電源插座接地良好。打開儀器的電源開關(guān)，等待儀器完成自檢和初始化過程。部分成像儀可能還需要連接電腦并安裝相應(yīng)的驅(qū)動程序和成像軟件，按照軟件安裝向?qū)瓿砂惭b后，啟動成像軟件與儀器進行通信...+ -
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無掩膜曝光機的工作原理及應(yīng)用解析
2025
6-22在現(xiàn)代光刻技術(shù)中，無掩膜曝光機以其優(yōu)勢逐漸嶄露頭角，為高精度、高靈活性的圖案轉(zhuǎn)移提供了新的解決方案。以下是對曝光機原理的詳細(xì)解析。一、核心原理概述曝光機的核心原理在于直接利用數(shù)字化數(shù)據(jù)控制光源，實現(xiàn)對基底上光刻膠的精確曝光，而無需傳統(tǒng)的物理掩膜版。這一過程主要依賴于動態(tài)光學(xué)投影或直寫技術(shù)，通過調(diào)整光源的強度、形狀和位置，直接在基底上形成所需的圖案。這種技術(shù)不僅簡化了曝光流程，還大大提高了圖案設(shè)計的靈活性和制作效率。二、關(guān)鍵組成部分與功能1、光源系統(tǒng)：無掩膜曝光機通常采用高強度...+ -
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鈣鈦礦前驅(qū)液特性對鈣鈦礦旋涂儀效果的影響探究
2025
5-25鈣鈦礦材料憑借其優(yōu)異的光電性能在光伏、發(fā)光等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大潛力，而鈣鈦礦旋涂儀在鈣鈦礦薄膜制備過程中起著關(guān)鍵作用。其中，鈣鈦礦前驅(qū)液的粘度、濃度和溶劑類型對旋涂效果有著顯著影響。首先，前驅(qū)液的粘度直接影響旋涂過程。粘度較高的前驅(qū)液在旋涂時，由于其內(nèi)部分子間作用力較強，流動性相對較差。在旋涂儀高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力作用下，高粘度前驅(qū)液難以迅速鋪展成均勻的薄膜，容易導(dǎo)致薄膜厚度不均勻，甚至出現(xiàn)局部堆積的現(xiàn)象。相反，粘度較低的前驅(qū)液流動性好，能夠快速在基底表面鋪展開，更易形成厚度均勻...+ -
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無掩膜曝光機在哪些領(lǐng)域應(yīng)用廣泛？
2025
5-22在現(xiàn)代先進制造與科研領(lǐng)域，無掩膜曝光機憑借其優(yōu)勢，在眾多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，曝光機發(fā)揮著極為關(guān)鍵的作用。半導(dǎo)體芯片的制造過程對精度和復(fù)雜度要求高，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)雖然成熟，但在某些特定場景下存在局限。曝光機能夠直接依據(jù)設(shè)計圖案對晶圓進行曝光，無需制作復(fù)雜的掩膜版，大大縮短了芯片研發(fā)周期。尤其是在新型半導(dǎo)體材料、器件結(jié)構(gòu)的探索階段，科研人員可以快速將設(shè)計思路轉(zhuǎn)化為實際芯片樣品，加速技術(shù)迭代與創(chuàng)新，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)發(fā)展注入強大動力。微機電系統(tǒng)（MEMS）領(lǐng)域同樣離不開...+
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