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MSD-200D廠商性質
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光阻成像儀/桌上型自動顯影機MSD-200D主要應用于曝光后的顯影工藝。該設備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統、主軸系統、控制系統及排液系統等組成，整機采用框架結構，外表為鏡面不銹鋼，無塵且不吸附顆粒，工作方式為手動上下片，自動完成顯影工藝。桌上型成像儀顯影單元基片采用真空吸附加四周擋板固定方式，采用進口伺服電機，保證轉速、加速度、控制精度高，重復性好；供液系統采用廠務或者壓力容器直接供液方式。
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MSC系列廠商性質
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12產品描述
掩膜涂膠機設備簡介：桌上型旋轉涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應用于12寸以內樣品。
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HMDS8-2廠商性質
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2754產品描述
HMDS增粘涂膠機應用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS處理后的硅片接觸角，進而降低勻膠時光刻膠在硅片表面鋪展開的難度，提高光刻膠與硅片的黏附性，降低光刻膠的用量。
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SHD8-SE廠商性質
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3479產品描述
全柜式涂膠顯影一體機概述： SHD8-SE涂膠顯影系統一體機主要由勻膠單元、烤膠單元、顯影單元等部分組成，該設備針對高校研究所實驗室，特點是占地面積小，性價價比更高。整機采用框架結構，外表為不銹鋼或者PP，無塵且不吸附顆粒，采用7寸操作界面控制，帶FFU、上排風接口、腔體為黃色燈、重力排廢接口、且每個模塊均可獨立工作，操作方式為手動上下樣品。
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MSD-200D廠商性質
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2357產品描述
桌上型自動顯影機MSD-200D主要應用于曝光后的顯影工藝。該設備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統、主軸系統、控制系統及排液系統等組成，整機采用框架結構，外表為鏡面不銹鋼，無塵且不吸附顆粒，工作方式為手動上下片，自動完成顯影工藝。 桌上型成像儀顯影單元基片采用真空吸附加四周擋板固定方式，采用進口伺服電機，保證轉速、加速度、控制精度高，重復性好；供液系統采用廠務或者壓力容器直接供液方式。
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